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991.
Xia Liu Hang Song Guoqing MiaoHong Jiang Lianzhen Cao Dabing LiXiaojuan Sun Yiren Chen 《Applied Surface Science》2011,257(6):1996-1999
In0.82Ga0.18As epilayers were grown on InP substrates using a two-step growth technique by LP-MOCVD. A homogeneous low-temperature (450 °C) In0.82Ga0.18As buffer layer was introduced to improve the crystalline quality of epilayers. The influence of low-temperature buffer layer deposition condition, such as thermal annealing duration, on the crystalline quality of the In0.82Ga0.18As epilayer was investigated. Double-crystal X-ray diffraction measurement, Hall measurement, and Raman scattering spectrum were used to evaluate the In0.82Ga0.18As epilayers. Atomic force microscope was used to study the surface morphology. It is found that the In0.82Ga0.18As epilayer, with buffer layer thermal annealing for 5 min, exhibits the best crystalline quality. The change of the surface morphology of the buffer layer after thermal annealing treatment was suggested to explain the phenomenon. 相似文献
992.
993.
994.
995.
996.
太阳电池组件由于局部电压不匹配,其中部分电池可能较长时间工作在负偏压状态下,从而影响电池光电性能.借助拉曼光谱、电化学阻抗谱和入射单色光量子效率(IPCE)等测试手段,研究长期负偏压作用下染料敏化太阳电池光电性能的变化及其影响机理.拉曼光谱研究结果表明:电池在1000 h负偏压作用下,电解质中阳离子(Li+)会向光阳极(TiO2电极)移动并嵌入TiO2薄膜中;长期负偏压作用还会致使TiO2/电解质界面阻抗增大和IPCE下降,导致电池开路电压升高和短路电流减小.通过加入苯并咪唑(BI)添加剂,经1000 h负偏压后电池的拉曼光谱实验表明,BI能在一定程度阻碍Li+的嵌入,电池具有较好的长期稳定性.不同负偏压下的老化实验进一步表明,通过加入添加剂能够使电池在长期负偏压下保持较好的稳定性.
关键词:
染料敏化
太阳电池
组件
负偏压 相似文献
997.
在低温条件下采用定向刻蚀技术, 对金属Ti片表面用H2O2溶液进行刻蚀氧化, 制备了垂直生长的纳米TiO2叶片状阵列薄膜电极. 通过X射线衍射分析表明, 纳米TiO2叶片状阵列薄膜经500 ℃下烧结1 h后, 从无定型转变为锐钛矿相. 场发射扫描电子显微镜观察表明: 在80 ℃下的H2O2溶液刻蚀氧化, 经1 d制备得到的是Ti片表面垂直生长的叶片状阵列, 其形貌均匀且完整地
关键词:
2')" href="#">纳米TiO2
叶片状阵列电极
染料敏化太阳电池
电子传输 相似文献
998.
基于传输线等效理论,设计了含有源频率选择表面(active frequency selective surface,AFSS)的三层可调复合吸波体,第一层是表面层,为AFSS衬底;中间层是AFSS层,由频率选择表面(frequency selective surface,FSS)和PIN二极管阵列构成;第三层是介质层.反射率测量结果表明,通过调节PIN二极管阵列偏置电压可以动态调节吸波体反射特性,在偏置电压为5 V时,可获得最佳吸波性能,在5—15 GHz和5.3—13 GHz频段分别可获得-8 dB和-
关键词:
频率选择表面
复合吸波材料
反射率
PIN二极管 相似文献
999.
1000.
采用全电势线性缀加平面波(FP-LAPW)的方法,基于密度泛函理论第一性原理结合广义梯度近似(GGA),运用Wien2k软件计算了In, N两种元素共掺杂SnO2材料的电子态密度和光学性质. 研究表明,共掺杂结构在自旋向下和向上两方向上都出现细的局域能级,两者态密度分布不对称;带隙内自旋向下方向上产生局域能级,共掺化合物表现出半金属性;能带结构显示两种共掺杂化合物仍为直接禁带半导体,价带顶随着N浓度的增加发生向低能方向移动,带隙明显增宽;共掺下的介电函数虚部主介电峰只在8.58 eV
关键词:
电子结构
态密度
能带结构
光学性质 相似文献